芯片行业科普:芯片制造的光刻成本
据semianalysis报道,他们正在密切跟踪的一个项目是光刻支出如何随着各种节点缩小而演变。这项研究最初是从28nm开始,然后从第一代 FinFET 节点发展到第一个 EUV 节点,再到第一个 Gate All Around Nanosheet 节点(3nm 和 2nm)。根据检查的节点,光刻花费的百分比有很大不同。下图是关于该主题的旧 ASML 幻灯片。它似乎排除了许多不同的晶圆厂资本支出,但看起来很有趣。
发布于:2022-06-21
| 作者:佚名
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