据中科院微电子所官宣，由该中心牵头承担的重点研发计划“高性能计算”重点专项--“基于高性能计算的集成电路电子设计自动化（EDA）平台”项目，近日通过了项目综合评价，这意味着一直困扰国产芯片自主研发的又一个重大技术阻碍取得了突破。
EDA对于芯片设计非常重要，因为如今的芯片非常复杂，芯片动辄都是百亿晶体管，没有EDA软件，根本就无法设计芯片，而当前的EDA软件则主要由外国企业垄断。（
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据了解目前全球前三大EDA软件企业分别是Cadence、Synopsys和Mentor，它们都是美国企业，占有EDA软件市场七成的市场份额，在国内市场更是一度占有超过九成的市场份额，直到近年中国芯片行业认识到美国的所谓开放也是有限的才逐渐增加其他地区的EDA软件采用率，同时加强EDA软件研发。
国内芯片企业第一家受到EDA软件断供影响的是华为，华为作为国内最领先的芯片企业，开发的手机芯片居于全球领先地位，可与全球手机芯片老大高通比肩，它又开发出ARM架构服务器芯片并已获得国内的中国电信和中国移动的采用，然而EDA软件的断供和芯片代工暂停，给它造成沉重打击。
随后哈尔滨工业大学、哈尔滨工程大学的师生也发现他们一直采用的EDA软件--科学计算和仿真软件 MATLAB 无法正常使用。实体企业、大学科研企业先后被断供或限制使用美国的EDA软件，这对我国的芯片产业造成了巨大影响。
面对这种境况，近两年来，国内的产业链积极协作，不断打通国产芯片的各个环节，这次中科院微电子所在EDA软件方面取得突破，无疑解决芯片设计的一个重大环节，解决了EDA软件的有无问题，未来将逐步缩短与外国企业的差距。
困扰芯片产业的还有芯片制造，由于EUV光刻机掌握在荷兰ASML公司手里，而ASML公司因为众所周知的原因至今未能给国内企业正常供应EUV光刻机，导致在7nm工艺研发方面迟迟无法突破，甚至DUV光刻机的供应也受到一定限制，导致国内芯片企业无奈之下只能选购二手DUV光刻机，这推动中国成为全球最大的光刻机买家，2021年的数据显示中国大陆采购的光刻机价值高达290多亿美元，超过韩国和中国台湾。
为此国内的光刻机企业如上海微电子等设备企业积极研发光刻机，早前富士康就采购了数十台上海微电子的光刻机，证明了国内在光刻机方面已取得巨大的进展，假以时日，相信中国必将研发出自己的EUV光刻机，打破瓶颈。（
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此外在光刻胶、芯片制造材料方面也在取得突破，可以说这两年是中国芯片产业大发展的时期，海外企业的做法，促使国内的芯片产业链前所未有的紧密合作，共同推动国产芯片产业链加速突破，可能这两年所取得的技术进展超过此前多年的发展。
中国芯片产业链的突破有力地增强了芯片自主研发的实力，可以相信随着中国产业链的共同努力，国产芯片必将在未来有一天实现完全的自主研发，真正摆脱对海外的技术依赖，增强中国制造的产业安全。
来源：柏铭007
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