光刻机的主要用途是制造芯片，是半导体制造领域的核心技术之一。具体来说，光刻机利用类似照片冲印的技术，通过光掩模将精细图形投影到硅片或其他基底上，形成所需的电路或结构。这些电路或结构是制造集成电路、微机电系统等微纳米器件的关键步骤。
光刻机的性能和精度直接影响了微纳米器件的质量和产量，因此，它在半导体制造、光学元件制造、生物医药等行业中得到了广泛的应用。在半导体行业，光刻机可以制作出半导体芯片、平板显示器等微型器件所需的微小图案，这些器件广泛应用于电子产品、通讯设备等领域。
总的来说，光刻机是现代高科技产业中不可或缺的重要设备，是推动微电子技术和信息技术发展的关键因素之一。
