光刻机（又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等）是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的制造集合了精密光学、精密仪器、高分子物理与化学、机械自动化软件、高精度环境控制和流体力学等多种世界先进技术，被誉为“现代光学工业之花”。
光刻机的工作原理主要包括排版、制作掩膜、照明系统、投影系统、曝光和显影等步骤。具体来说，首先将电路设计信息输入到计算机中，经过排版软件的处理，将电路图案转换为光刻片上的图案；然后根据计算机处理后的电路图案，制作掩膜；光刻机的照明系统采用紫外线光源，将光线通过一系列镜片、光阑等光学元件进行整形，使其能够均匀、平行地照射到光刻片上；接着，投影系统将光线通过透镜，将掩膜上的图案缩小投影到光刻片上；在光刻片上照射时，被曝光的区域会发生化学反应，使得该区域的光刻片发生改变；最后，经过曝光后，将光刻片放入显影液中，未曝光的区域将被蚀刻掉，形成微细的电路结构。
光刻机的应用范围十分广泛，尤其在半导体制造、光学元件制造、生物医药等行业中得到广泛应用。如需更多信息，可以查阅半导体技术领域的专业书籍或咨询该领域的专家。
